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Ge-74 in the form of Germanium
Tetrafluoride gas is used as preamorphic implant to
prevent silicon wafer from implant dopant channeling.
Furthermore, it is used to strain silicon wafer which
optimizes the performance and speed of the device.
Envasado tipo A con licencias regionales manejadas.
Calibrado a su fecha de entrega, enviado de reactores calificados y socios cGMP.
Asistencia y documentación de DMF para los archivos Canadá, Estados Unidos y América Latina.
Tipo A embalaje, licencias y aduanas manejados por nuestros mostradores de pedidos regionales.
Pregúntame cualquier cosa sobre nuestros productos, servicios o empresa. Respondo de este sitio web.
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