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Ge-74 in the form of Germanium
Tetrafluoride gas is used as preamorphic implant to
prevent silicon wafer from implant dopant channeling.
Furthermore, it is used to strain silicon wafer which
optimizes the performance and speed of the device.
Expédié dans un emballage de type A avec licence régionale traitée.
Calibré jusqu'à votre date de livraison, expédié à partir de partenaires qualifiés du réacteur et du GMPc.
Aide et documentation du DMF pour les dépôts au Canada, aux États-Unis et en Amérique latine.
Emballages, licences et douanes de type A traités par nos comptoirs régionaux.
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